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中國超分辨光刻裝備研制擁有完全自主知識產權

發布時間:2019-04-01 關鍵字:超分辨光刻裝備

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“超分辨光刻裝備研制”項目近日在超分辨成像器件設計與加工技術等關鍵技術上取得系列突破,研制出了全球首套分辨率突破了衍射極限的光刻裝備,并擁有完全自主知識產權。該項目發表論文68篇,申請國家發明專利92項,其中授權47項,申請國際專利8項,授權4項。項目培養了一支超分辨光刻技術和裝備研發團隊。

結合實際應用需求,該項目組通過技術的延伸,實現了系列化的超分辨光刻裝備研制,已經解決了多種微納功能材料和器件的加工難題,并實現了相關器件的制造。

這不僅打破了國外在高端光刻裝備領域的壟斷,也為納米光學加工提供了全新的解決途徑。


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